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紫外线照射系统和水质量监控装置专利研究

时间:2014-08-25 11:11来源:正航仪器 作者:正航网络点击:

 

 

紫外线照射系统和水质量监控装置专利研究

 

 

 

申请(专利)号:CN200810082285.2申请日:2008.02.29

公开(公告)号:CN101254964公开(公告)日:2008.09.03

主分类号:C02F1/32(2006.01)I范畴分类:

分类号:C02F1/32(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I;H05B41/36(2006.01)I

优先权:2007.3.1 JP 051975/2007

申请(专利权)人:株式会社东芝

地址:日本东京都

国省代码:日本;JP

发明(设计)人:海贺信好;中野壮一郎;波多野晶纪

国际申请:

国际公布:

进入国家日期:

专利代理机构:永新专利商标代理有限公司

代理人:韩宏

分案申请号:

颁证日:

 

紫外线照射系统专利

 

摘要:

连续吸纳流入紫外线照射槽中的部分处理前的水被导引至荧光计。荧光计在固定在425纳米的荧光波长扫描处理前的水的激发光谱峰值波长以获激发光谱,并连续测量其激发峰值波长。紫外线照射等级控制装置根据荧光计获得的分析结果计算紫外线照射等级目标值,以优化紫外线照射等级。因而控制了从中发出的紫外线的照射等级。

主权项:

一种利用紫外线对水进行消毒的紫外线照射系统,包括:荧光计,其设置在消毒处理前的处理中的至少一点,所述荧光计连续测量激发光谱峰值波长及/或荧光光谱峰值波长;以及紫外线照射等级控制设备,其根据所述荧光计得到的所述激发光谱峰值波长和荧光光谱峰值波长中的至少一个控制紫外线照射等级。http://www.7unet.com 

 

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